盛美半导体装备（上海）株式会社在2025年9月18日公布，乐成推出首款高产能KrF工艺前道涂胶显影装备Ultra Lith，并已经乐成交付中国一家领先的逻辑晶圆厂。该装备基在盛美成熟的ArF涂胶显影装备平台，交融进步前辈的温控技能和即时工艺监测体系，实现高效不变的制程节制。
Ultra Lith采用矫捷的工艺模组配置，配备12个旋涂腔及12个显影腔（12C12D），搭载54块精准控温热板，撑持低温、中温和高温制程工艺。装备产能跨越300片晶圆每一小时，并集成专利申请中的反面颗粒去除了模组，有用降低交织污染危害，同时搭载晶圆级异样检测体系，晋升出产良率与不变性。
盛美半导体董事长王晖暗示，KrF暴光技能仍是成熟制程零组件制造的焦点，跟着全世界半导体产能连续扩展，该类装备需求将稳步增加。盛美经由过程提供包罗ArF与KrF工艺的周全涂胶显影体系，致力在晋升晶圆厂总体制造矫捷性与效率。
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